Machine de pulvérisation à double tête magnétron sous vide poussé avec pompe à vide

Sales Manager: Gia

Email: Gia@tmaxlaboratory.com

Wechat: Dingqiuna

Contactez-nous

Détails du produit

Poussière de pulvérisation magnétron à double tête sous vide poussé avec pompe à vide

Spécifications techniques

Ensemble de pompe à vide	(Huile requise) Pompe à vide rotative + (sans huile) Ensemble de pompe turbo moléculaire
Vitesse de pompage rotative	50 Hz : 16 m³/h (4,4 L/s) / 60 Hz : 19,2 m/h (5,2 L/s)
Vitesse de pompage moléculaire	300 L/s
Limite de vide	5x10^-5Pa
Pression de service	0,5-5 Pa
Temps de mise sous vide	10 Min(10^-3Pa)
Mesure du vide	Plage de mesure de l'atmosphère à 10^-6Pa
Contrôle du gaz	Contrôleur de débit de gaz
Taille de la chambre	Ï260*200mm (hauteur) Métal
Source cible magnétron	Taille cible : 50 * 3 mm (Cu) / Source cible : Substance magnétique faible / Matériaux
Méthode de fonctionnement	Manuel d'instructions
Poids / Taille	100 kg / 610 mm de longueur420 mm de largeur490 mm de hauteur
Alimentation	CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz
Consommation électrique	<3000W
Méthode de refroidissement	Refroidissement par air (pompe) + refroidissement par eau (cible de pulvérisation)
Garantie	Garantie limitée d'un an avec assistance produit à vie

Tmax CE

TMAX Partner

CVD furnace

tube furnace

muffle furnace

1 emballage standard exporté : protection anticollision interne, emballage de boîte en bois d'exportation externe.

2 Expédition par express, par avion, par mer selon les exigences des clients pour trouver le moyen le plus approprié.

3 Responsable des dommages pendant le processus d'expédition, changera gratuitement la pièce endommagée pour vous.

Balises chaudes :

Magnetron Sputtering Coater Laboratory Magnetron Coater High Vacuum Coater Vacuum Sputter Coater Magnetron Coating Machine Dual-head Sputtering Coater