Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à ions magnétron sous vide poussé DC ou RF pour la préparation d'échantillons SEM

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Numéro d\'article.:
TMAX-650MH
Paiement:
L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
Port d\'expédition:
Xiamen Port
Délai de mise en œuvre:
5 Days
certificat :
CE, IOS, ROHS, SGS, UL Certificate
garantie :
Two years limited warranty with lifetime technical support

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Détails du produit

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à ions magnétron sous vide poussé DC ou RF pour la préparation d'échantillons SEM

Présentation

Haut Le revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide est idéal et conçu pour la science des matériaux et la préparation des échantillons. Il est largement utilisé par la majorité des universités et des instituts de recherche scientifique en science et ingénierie des matériaux pour recouvrir des métaux, des céramiques, des semi-conducteurs, des isolants ou d'autres types de préparation de matériaux membranaires.

Le dispositif de pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé fournit l'environnement de pulvérisation le plus stable et atteint les conditions expérimentales de base de la pulvérisation magnétron dans un laps de temps très court. Il fournit deux types d'options de puissance de pulvérisation DC/RF qui permettent de pulvériser une substance conductrice ou non conductrice sur l'échantillon et améliorent les performances de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il est également excellent pour le traitement de surface et le revêtement. Il est également facile à utiliser et convivial.

La pompe à vide et le refroidisseur sont inclus.

Paramètre

Vide pump set	(Oil requis) rotatifrotatif vacuum pump+(oil libre) turbo moleculan pensemble de pompe
Rotatif pompepompage svitesse	50 Hz : 16 mÂ³/h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2mÂ³/h (5,2 L/s)
Moléculaire pompagepompage svitesse	300 L/s
Vide llimite	5x10^-5Pa
Travail ppression	0,5-5 Pa
Passer l'aspirateur timoi	10 Min(10^-3Pa)
Vide mesuremesure	Plage de mesure de l'atmosphère à 1*10^-6Pa
Gaz ccontrôle	Gaz ffaible contrôleurcontrôleur
Chambre dimensionstaille	Ï260*200mm (hauteur) métal
Magnétron tcible sourcesource	Taille cible Ï 50*3mm(Cu)/tsource cible : weak mmagnétique ssubstance /matériaux
Opération mméthode	Manuel d'instructionsl
Poids/ttaille	100 kg/610 mm de longueur x 420 mm de largeur x 490 mm de hauteur
Énergie alimentationalimentation	CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz
Puissance cconsommation	<3000W
Méthode de refroidissement	Air refroidissement(pump)+ eaueau refroidissementrefroidissement(sputting tcible)
Garantie	Garantie limitée d'un an avec support produit à viet

Tmax CE

TMAX Partner

CVD furnace

tube furnace

muffle furnace

1 emballage standard exporté : protection anticollision interne, emballage de boîte en bois d'exportation externe.

2 Expédition par express, par avion, par mer selon les exigences des clients pour trouver le moyen le plus approprié.

3 Responsable des dommages pendant le processus d'expédition, changera gratuitement la pièce endommagée pour vous.

Balises chaudes :

Coucheuse par pulvérisation DC Coucheuse par pulvérisation RF Machine de revêtement par pulvérisation magnétron Machine de pulvérisation magnétron sous vide poussé Machine de revêtement sous vide Machine d'enduction pour la préparation d'échantillons SEM