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Ligne d'équipement de recherche sur les cellules solaires en pérovskite

Machine de nettoyage à lumière UV à pérovskite de type petit tiroir, pour le nettoyage de petits substrats tels que ITO et FTO

Machine de nettoyage à lumière UV à pérovskite de type petit tiroir, pour le nettoyage de petits substrats tels que ITO et FTO

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Wechat: Dingqiuna

  • Numéro d\'article.:

    TMAX-BZS
  • certificat :

    CE Certified
  • garantie :

    1 Year limited warranty with lifetime support
Détails du produit

Machine de nettoyage à lumière UV à pérovskite de type petit tiroir pour le nettoyage de petits substrats tels que ITO et FTO


Ultrasonic Cleaning Machine

La machine de nettoyage à lumière UV BZS250GF-TC a une efficacité et un effet de nettoyage de niveau industriel, adaptée au nettoyage de petits substrats, tels que les panneaux à cristaux liquides, ITO, FTO, verre optique, OLED, LCD, silicium, céramique, tôle, polymère, silicone et autres nettoyages de surfaces, pour nettoyer la matière organique de surface du produit, c'est-à-dire la modification de surface. On obtient ainsi une meilleure hydrophilie.


A. Configuration du produit

Numéro de série

Description

Numéro de modèle

BZS200GF-TC

BZS250GF-TC

BZS320GF-TC

1

Matériau de la machine complète

L'ensemble de la machine est en acier inoxydable miroir 304 et les composants clés sont fabriqués par Schneider, Omron et d'autres marques

2

Alimentation

220V, 250W

220V, 300W

220V, 350W

3

Puissance de la lampe

200W

250W

320W

4

Taille de nettoyage

150*150mm

200*200mm

250*250mm

5

Technologie des matériaux des lampes

Matériau de quartz pur japonais, lampe à grille unique

6

Spectre de fonctionnement

185+254nm

7

Durée de vie de la lampe

8000 heures

8

Délai

0-99 minutes/heure

9

Hauteur d'irradiation

0-100mm

10

Assistance lumière

Réflecteur haute performance

11

Chauffage (en option)

Plage de chauffage de la température ambiante à 300°

12

Protection de sécurité

La lampe s'éteint automatiquement lorsque le tiroir est retiré

13

Lumière de repère

Indication/alerte d'exception

14

Fonction d'échappement

Avec système d'échappement à l'ozone, sortie de diamètre 125 mm, équipé de tuyaux d'air et de fixations

15

Dimension hors tout

350W*400L*350H (mm)

450L*390W*350H (mm)

16

Poids

20kg

22kg



B. Champ d'application

â Nettoyer le substrat avant le dépôt du film. Élimination des écumes et stabilisation du traitement photorésistant. Joint sous vide ultra poussé.

â Nettoyer les copeaux de silicium, les lentilles, les miroirs, les panneaux solaires, l'acier laminé à froid, les pièces de guidage inertiel et les copeaux de GaAs

â Flux propre, circuit de mélange et écran LCD plat

â Etch Téflon, caoutchoucs fluorés et autres matériaux organiques

â Surface de passivation améliorée de GaAs et d'oxyde de Si

â Améliorer l'effet dégazant du verre

â Retrait du film bleu du substrat

â Améliorer l'adhérence du revêtement sur la surface en plastique

â Tache d'encre transparente après le test final du substrat

â Supprimer la résine photosensible

â Écran plat/écran LCD

â Supprimer les résidus de la machine lithographique

â Nettoyer le circuit imprimé avant l'emballage et le ruban adhésif)

â Fibre optique

â Propriétés hydrophiles de surface améliorées

â Nettoyage et désinfection pour les applications en biosciences

â Lentille optique

â Autres applications

C. Effet nettoyant

L'effet nettoyant est généralement testé par l'hydrophilie de la surface du substrat, c'est-à-dire l'angle de contact








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