Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé DC ou RF utilisée pour fabriquer des cellules solaires en pérovskite

Responsable commercial : Gia
E-mail : Gia@tmaxlaboratory.com
Wechat : Dingqiuna

Numéro d\'article.:
TMAX-650MH
certificat :
CE Certified
garantie :
1 Year limited warranty with lifetime support

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Détails du produit

Machine de revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé CC ou RF utilisée pour fabriquer des cellules solaires à pérovskite

Présentation

Vide poussé La coucheuse par pulvérisation ionique magnétron est idéale et conçue pour la science des matériaux et la préparation d'échantillons. Il est largement utilisé par la majorité des universités et des instituts de recherche scientifique en science et ingénierie des matériaux pour recouvrir des métaux, des céramiques, des semi-conducteurs, des isolants ou d'autres types de préparation de matériaux membranaires.

Le dispositif de pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé fournit l'environnement de pulvérisation le plus stable et atteint les conditions expérimentales de base de la pulvérisation magnétron en très peu de temps. Il fournit deux types d'options de puissance de pulvérisation DC/RF qui permettent de pulvériser une substance conductrice ou non conductrice sur l'échantillon et améliorent les performances de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il est également excellent pour le traitement de surface et le revêtement. Il est également facile à utiliser et convivial.

La pompe à vide et le refroidisseur sont inclus.

Paramètre

Vide pump set	(Oil requis) rotatifrotatif vacuum pump+(oil gratuit) turbo moleculan pensemble de pompe
Pompage rotatifpompage svitesse	50 Hz : 16 mÂ³/h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2mÂ³/h (5,2 L/s)
Moléculaire pompagesvitesse	300 L/s
Vide llimite	5x10-5Pa
Travail ppression	0,5-5Pa
Passer l'aspirateur timoi	10 Min(10-3Pa)
Vide mesuremesure	Plage de mesure de l'atmosphère à 1*10Pa
Gaz cContrôle	Gaz ffaible ccontrôleur
Chambre dimensionstaille	Ï260*200 mm (hauteur) métal
Magnétron ccible ssource	Taille cible Ï 50*3mm(Cu)/tsource cible : weak mmagnétique ssubstance /matériauxmatériaux
Opération mméthode	Manuel d'instructionsl
Poids/tailletaille	100 kg/610 mm de longueur x 420 mm de largeur x 490 mm de hauteur
Énergie alimentationalimentation	CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz
Puissance cconsommation	<3000W
Méthode de refroidissement méthode	Air refroidissement(pump)+ eaueau refroidissementrefroidissement(sputting tcible)
Garantie	Garantie limitée d'un an avec support produit à viet