alimentation rf pour PECVD Le PECVD Le système se compose d'un four tubulaire, d'une chambre à vide en quartz, d'un système de vide, d'un système d'alimentation en gaz et d'un système d'alimentation à radiofréquence. principalement utilisé pour: croissance de films minces métalliques, de films minces céramiques, de films minces composites, de graphène, etc. il est facile d'ajouter des fonctions et peut étendre des fonctions telles que le nettoyage au plasma et la gravure. Le PECVD Le système présente les avantages d'un taux de dépôt de film élevé, d'une bonne uniformité, d'une consistance élevée et d'une stabilité principaux paramètres techniques de l'alimentation rf plage de puissance de sortie 0-500W puissance réfléchie maximale 200W fréquence de travail RF: 13,56 MHZ ± 0,005% stabilité de puissance + / -0,1% composante harmonique ≤-50dbc largeur de la région rf 0-600mm réglable manière correspondante automatique mode de refroidissement points de froid bruit